57光源之外，也是梁远偷渡之前人类技术上限中最有可能投入到大规模商业应用中的光源，这个阵营包括英特尔、amd、摩托罗拉、美国能源部、asml、英飞凌、micron等。

　　1nm接近式x光：这个阵营包括aset、mitsubishi，、nec、toshiba，、ntt、ibm、摩托罗拉，这也是一个被林本坚博士击沉的阵营，由于实验室向来比产业界前沿的缘故，这个阵营起始于八十年末期，采用接近式曝光方式生产，原计划可以作为157光源之后的后补技术登场，到了新世纪虽然没有尼康那般倒霉刚好产品成熟，不过美日两国也各自在这个方向上投入了数十亿美元的巨资，还未问世就已经凉凉也不知道是幸还是不幸。

　　或epl:朗讯～贝尔实验室、ibm、佳能、尼康，asml被邀请加入后又率先退出，这个阵营的学名叫做电子束直写技术，是所有光刻技术阵营中看起来最吊也最浪漫的那个，同样也是光刻技术的物理极限，更是方伟林的主要来意。

　　尼康在被asml击败之后，曾押宝电子束直写技术拼死一搏，可惜这玩意的研发难度堪称电子行业的可控核聚变，直到梁远偷渡那一刻也没听到入坑十年的尼康搞出什么大新闻。

　　一般来说，科技的前沿以大学为主多从事基础科技研发，基础科技往往领先产业应用十几年甚至上百年的时间，比如爱因斯坦的质能方程和相对论，产业的前沿则是以大学定向实验室和各类企业研究所为主，实验室技术基本就是未来的工业界主流技术，往往领先工业界现有技术五至十年，比如诺基亚实验室在2000年曾经在实验室中搞出了和苹果手机类似的个人电子终端，可惜被诺基亚高管枪毙掉了。

　　同样，在九十年代初，从事电子产业研发的各大公司前沿实验室，已经发觉193nm波长之后，光源的发展忽然陷入了极大的困境，现有的材料完全不支持更短波长的光源有大批量应用的可能，继续缩短波长只能寄托于新材料的发现或者死磕收益率不高的153nm波长的光源，更新现有电子产业的大部分设备。

　　由于芯片产业属于高技术行业的缘故，前沿和生产一线的联系十分紧密，实验室的研发困境很快就传导到了产业界，结果虽然193nm的光源还未普及，但未来的阵营已经隐隐有了迹象。

　　港基集电作为共和国唯一一家能摸到产业前沿尾巴的微电子集团，内部对未来的技术路线自然也是争执不断，有站队193nm决定只看眼前的，有站队153nm的，相比193nm提升25%也是提升对不对，相比极紫外光反射式euv光刻，153nm设备的

　　请收藏：https://m.biququge.cc

（温馨提示：请关闭畅读或阅读模式，否则内容无法正常显示）